【环球播资讯】半导体设备板块冲高走低,“再全球化”挑战重重

7月3日,半导体设备板块在开盘经历短暂冲高之后走低。截至全天收盘,半导体设备指数(884229)报85313.456点,跌幅0.74%。个股方面,北方华创(002371.SZ)报收303.92元/股,跌幅4.32%;拓荆科技(688072.SH)报收420.00元/股,跌幅1.40%;中微公司(688012.SH)报收153.20元/股,跌幅2.08%;耐科装备(688419.SH)报收42.00元/股,跌幅1.36%。


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消息面上,6月30日荷兰政府颁布了有关半导体设备出口管制的新条例。根据新出口管制条例规定,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCANNXT:2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证,并将向ASML提供许可证所附条件的细节。

ASML30日回应第一财经记者称,正如公司在今年三月发布的消息中所述,这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统。

商务部30日针对这一事件评价表示,荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,尊重市场原则和契约精神,避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展,不滥用出口管制措施,切实维护中荷企业和双方共同利益,维护全球半导体产业链供应链稳定。

记者了解到,荷兰政府出口限制条例主要针对的是ASML型号为TWINSCANNXT:2000i及后续推出的TWINSCANNXT:2050i产品,两者均属于DUV系列ArF光刻机产品。官方公布的性能参数显示,上述两款光刻机产品的分辨率为≤38nm,主要面向制程节点为7-28nm。

目前市场上的光刻机按照迭代的先后顺序主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代,其中,g-line已逐渐被市场淘汰,第五代EUV光刻机的工艺节点目前是最优的,能够达到7nm以下。

在EUV光刻机市场方面,ASML目前处于绝对的垄断地位。光大证券的研报显示,ASML占有EUV光刻机100%的市场份额。据ASML财报数据,2022年EUV光刻机均价高达1.76亿欧元每台,远高于其他类型的光刻机。不过早在2019年,荷兰政府就限制了的EUV光刻机产品的出口。在7-28nm制程段,ASML目前也仅有TWINSCANNXT:1980Di这一较老的型号产品在出口管制条例之外。

日本政府本月也出台了类似的半导体制造设备出口管制措施,相关条例将于7月23日起实施。该措施将加强对23种芯片制造设备的出口管制,范围包括清洗、薄膜沉积、热处理、蚀刻、测试等。

不过,在上周末召开的SEMICON China 2023展会期间,记者发现了一个小细节。尽管日本政府已经颁布了相关政策,但无论是尼康(Nikon)半导体还是佳能(Canon)半导体,均在自己的展台上展示了自己最先进的产品。

尼康半导体公司的内部人士对记者表示,目前政策还没有落地,尼康作为日本的半导体企业,不得不遵守日本政府的规定,政策落地后,公司将会积极研究,在政策划定的范围之内和中国市场展开合作。

光大证券的数据显示,近年来,ASML、 Nikon、 Canon 三大企业光刻机在全球的销量稳步提升, 从 2015 年的 281 台增长至 2022 年的 551 台, 复合年均增长率达 10.10%, 销售收入由 2019 年的 945 亿元增长至 2022 年的 1318 亿元, 复合年均增长率达 11.73%, 其中 ASML 占据销量的 8 成以上。

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